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首頁-浙江超高速灰度光刻





更新時間:2025-12-17
簡要描述: QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe

廠家實力
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QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。 如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù),請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。浙江超高速灰度光刻

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。浙江超高速灰度光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù)。

灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)(如下圖4所示,八邊金字塔結(jié)構(gòu))。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意,灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,約為Ra=100nm,前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制。
Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。更多德國雙光子灰度光刻技術(shù)內(nèi)容,敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

納米紋理在納米技術(shù)中起著越來越重要的作用。近期的研究表明,可以通過空間調(diào)節(jié)其納米級像素的高度來進(jìn)一步增強其功能。但是,實現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性,因為它需要對納米像素進(jìn)行“灰度”打印,其中,納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi)。只有少數(shù)幾種方法(例如,灰度光刻或掃描束光刻)可以滿足這種嚴(yán)格的要求,但通常其成本較高,并且它們中的大多數(shù)需要化學(xué)開發(fā)過程。因此,具有高垂直和水平分辨率的可重構(gòu)灰度納米像素打印技術(shù)受到高度追捧。雙光子灰度光刻技術(shù)多強大,如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。浙江超高速灰度光刻
更多灰度光刻技術(shù)詳情,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。浙江超高速灰度光刻
PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)是國民經(jīng)濟的基礎(chǔ)性、戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè),是信息化和工業(yè)化深度融合的源頭,對促進(jìn)工業(yè)轉(zhuǎn)型升級、發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)、推動現(xiàn)代**建設(shè)、保證和提高大家生活水平具有重要作用。隨著儀器儀表和計算機的完美結(jié)合,為了更好地滿足人們對精神世界的需求,體驗多維世界給人們帶來的快樂,儀器儀表的虛擬化開始發(fā)展。身臨其境接受客觀實物,給美又增添了一絲創(chuàng)意。隨著手機移動網(wǎng)絡(luò)的消費潛力不斷隱現(xiàn),消費者利用手機消費的頻率和份額逐年遞增。移動互聯(lián)網(wǎng)所隱藏的商業(yè)價值被更多地挖掘出來之后,各種傳統(tǒng)行業(yè)(包括PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)行業(yè))的移動網(wǎng)上平臺相繼誕生。我國現(xiàn)有外商獨資企業(yè)企業(yè)數(shù)千多家,已經(jīng)形成門類品種比較齊全,具有一定技術(shù)基礎(chǔ)和生產(chǎn)規(guī)模的產(chǎn)業(yè)體系。但同時業(yè)內(nèi)**也指出,雖然我國測試儀器產(chǎn)業(yè)有了一定的發(fā)展,但遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足國民經(jīng)濟各行各業(yè)日益增長的迫切需求。浙江超高速灰度光刻
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