提高酸性蝕刻液再生回用率的系統(tǒng),其包括蝕刻產(chǎn)線,電解裝置,添加裝置,再生液調(diào)配裝置以及再生液ORP提升裝置,蝕刻產(chǎn)線的富銅酸性蝕刻廢液經(jīng)電解裝置電解后成氯氣和貧銅電解清液,貧銅電解清液與蝕刻產(chǎn)線的低ORP酸性蝕刻液混合形成再生酸性蝕刻液,再生液ORP提升裝置對(duì)酸性蝕刻液進(jìn)行逆流噴射,并與氯氣碰撞,獲得高ORP酸性蝕刻再生液再返回蝕刻產(chǎn)線。本申請(qǐng)通過再生液ORP提升裝置的設(shè)置,獲得高ORP酸性蝕刻再生液再返回蝕刻產(chǎn)線,以提高蝕刻產(chǎn)線上酸性蝕刻液的ORP,替代了傳統(tǒng)蝕刻產(chǎn)線添加氧化劑與鹽酸的方式,提高了蝕刻廢液的再生回用率,降低了化學(xué)劑的使用和廢水的排放。蝕刻是一種利用化學(xué)強(qiáng)酸腐蝕、機(jī)械拋光或電化學(xué)電解對(duì)物體表面進(jìn)行處理的技術(shù)。江門堿性蝕刻液回用及提銅服務(wù)報(bào)價(jià)

蝕刻液提銅：PCB行業(yè)制作工序中產(chǎn)生大量微蝕液、蝕刻液、硝酸銅等含有不同濃度的銅等金屬，回收價(jià)值高，且外排廢水中也會(huì)有少量的銅重金屬存在，如不能合理的進(jìn)行環(huán)保處理，一方面造成資源的嚴(yán)重浪費(fèi)，另一方面重金屬排放后滲入至土壤及水源之中，即會(huì)對(duì)我們賴以生存的自然環(huán)境及自身的健康產(chǎn)生嚴(yán)重的污染和危害。近年來隨著環(huán)保意識(shí)的增強(qiáng)，部門法規(guī)對(duì)于印制電路板工廠排放廢水的各項(xiàng)指標(biāo)限制日趨嚴(yán)謹(jǐn)，因此，印制電路板產(chǎn)業(yè)廢水處理為達(dá)到銅離子的穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放標(biāo)準(zhǔn)，均以大量加藥的手段來獲得解決。但傳統(tǒng)的加化學(xué)藥劑，操作成本高，且造成大量銅污泥產(chǎn)生及排放廢水導(dǎo)電度過高（溶解性鹽類造成），導(dǎo)致廢水回用難度加大或者根本無法回收使用的后續(xù)問題。江門堿性蝕刻液回用及提銅服務(wù)報(bào)價(jià)蝕刻液回收氯化銨的處理系統(tǒng)，包括中和處理段、壓濾段、離子交換處理段、蒸發(fā)段和后處理段。

堿性蝕刻液循環(huán)再生回用裝置,具有廢液暫存槽、三級(jí)萃取槽、二級(jí)水洗滌槽、電解反應(yīng)槽、再生液調(diào)配槽、萃取油中轉(zhuǎn)槽,廢液暫存槽連接蝕刻生產(chǎn)線,廢液暫存槽的輸出端依次連接三級(jí)萃取槽、二級(jí)水洗滌槽、電解反應(yīng)槽,三級(jí)萃取槽萃取分離廢液中的銅離子,二級(jí)水洗滌槽將銅離子和萃取油分離,電解反應(yīng)槽對(duì)銅離子電解提銅；三級(jí)萃取槽的廢液轉(zhuǎn)移到再生液調(diào)配槽中調(diào)配回用；二級(jí)水洗滌槽分離出來的萃取油轉(zhuǎn)移搭配萃取油中轉(zhuǎn)槽中循環(huán)回用。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)在線隨機(jī)封閉式循環(huán)運(yùn)行,從源頭污染預(yù)防,減少二次污染,達(dá)到對(duì)蝕刻廢液有價(jià)部分進(jìn)行回收,有用部分進(jìn)行完全回用,符合產(chǎn)業(yè)利用,具有好的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。

酸堿性蝕刻液回收利用的移動(dòng)式集成裝置,所述移動(dòng)式集成裝置包括集裝箱本體,所述集裝箱本體內(nèi)部設(shè)置有將集裝箱本體分為上下兩層的操作平臺(tái),所述集裝箱本體的頂部的局部設(shè)置為可升降棚,所述可升降棚位于所述操作平臺(tái)正上方;所述集裝箱本體內(nèi)部設(shè)置有小型化蝕刻液回收裝置。本實(shí)用新型提供的集成裝置可移動(dòng)性強(qiáng),集成度高,可根據(jù)客戶需求隨時(shí)運(yùn)至客戶工廠內(nèi),對(duì)客戶產(chǎn)生的酸堿性蝕刻廢液進(jìn)行實(shí)時(shí)的在線回收處理,免除客戶的蝕刻廢液存儲(chǔ),轉(zhuǎn)運(yùn)風(fēng)險(xiǎn),降低運(yùn)行費(fèi)用。凡能氧化銅而生成可溶性銅鹽的試劑，都可以用來蝕刻敷銅箔板。

蝕刻液發(fā)展概況：印制線路板產(chǎn)業(yè)發(fā)展至今，蝕刻工藝過程所使用過的蝕刻液，已經(jīng)更新至第四代產(chǎn)品。首代產(chǎn)品：鹽酸—三氯化鐵型蝕刻液，工藝穩(wěn)定、操作方便、成本低廉,但污染嚴(yán)重、再生困難、廢水治理困難，同時(shí)蝕刻速度也不快（20～30μm/min），溶銅量也不多（50～60g/L）。第二代產(chǎn)品：硫酸—過硫酸銨型蝕刻液（或鉻酸）：蝕刻速度和溶銅量都較低,易分解,廢液中含首類有害物質(zhì)。這兩代產(chǎn)品現(xiàn)已被淘汰。第三代產(chǎn)品：鹽酸—雙氧水型蝕刻液：組份簡(jiǎn)單,雙氧水（35%）與鹽酸（36%）按1：2的體積比配制、蝕刻速度可達(dá)25～30μm/min,溶銅量可達(dá)80～110g/L。至今仍有極少數(shù)企業(yè)在使用它。第四代產(chǎn)品：氯化銅型(酸性、堿性)蝕刻液：自1975年發(fā)明以來至今，被普遍使用，(性能特點(diǎn)將在下面將作重點(diǎn)論述）。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。江門堿性蝕刻液回用及提銅服務(wù)報(bào)價(jià)

印制線路板產(chǎn)業(yè)發(fā)展至今，蝕刻工藝過程所使用過的蝕刻液，已經(jīng)更新至第四代產(chǎn)品。江門堿性蝕刻液回用及提銅服務(wù)報(bào)價(jià)

工藝開始時(shí)，將一塊完整的銅箔附著在基材上，將電回路刻畫在其上，并用錫附著在其上，保證電回路不被蝕刻下來，保證這構(gòu)成電回路的銅完整。化學(xué)蝕刻法已經(jīng)成為了印制電路板過程的不可或缺的一步。現(xiàn)如今，應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)的蝕刻液應(yīng)當(dāng)具備的以下六點(diǎn)技術(shù)性能：1、蝕刻液要能保證抗蝕保護(hù)層或者抗電鍍保護(hù)層的不被蝕刻的性能要求。2、蝕刻工藝條件（溫度、外界環(huán)境等）范圍寬，作業(yè)環(huán)境相對(duì)良好（不能有太多揮發(fā)性有毒氣體），并且能夠有效地實(shí)行自動(dòng)控制。3、蝕刻藥效較為穩(wěn)定，使用周期壽命長(zhǎng)。4、蝕刻系數(shù)大，蝕刻速度較高，并且側(cè)蝕小。5、具有較大的溶解銅的能力。6、污水處理較容易。江門堿性蝕刻液回用及提銅服務(wù)報(bào)價(jià)

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