廢蝕刻液中富含金屬銅離子,長期以來都采用傳統的化學法處理廢液來回收銅,其殘液的排放會造成嚴重的二次污染,給周邊環境帶來極大的影響和壓力,同時處理廢液浪費大量的堿液,把可回收的酸也浪費,不能做到資源節約、環保、循環經濟、清潔生產等。作者通過三年多的研究,開發出利用離子膜結合電解技術來回收廢蝕刻液中的銅,同時再生蝕刻液使其繼續返回蝕刻生產線使用。其大的技術特點在于把鹽酸中的銅離子,通過膜技術分離到硫酸溶液中,變成傳統的硫酸銅溶液電解。這種技術和思路極大地簡化了回收和再生工藝,降低了回收能耗,解決了用萃取工藝回收而引起的的許多問題,是一種先進的回收再生技術。此工藝產業化的推廣是印制電路板企業廢液處理的一次環保,前景廣闊。印制線路板產業發展至今，蝕刻工藝過程所使用過的蝕刻液，已經更新至第四代產品。定南堿性蝕刻液回用及提銅多少錢

堿性蝕刻液循環再生回用裝置,機架,廢液暫存槽,所述機架側面設置有控制器,所述機架上方設置有電解反應槽,所述電解反應槽內部設置有硫酸銅反萃液槽,所述硫酸銅反萃液槽與所述電解反應槽之間設置有單向膜,所述電解反應槽旁邊設置有二級水洗槽,所述二級水洗槽旁邊設置有三級萃取槽,所述三級萃取槽連接有所述廢液暫存槽,所述廢液暫存槽連接有蝕刻生產線,所述蝕刻生產線另一端連接有再生液暫存槽,所述再生液暫存槽旁邊設置有再生液調配槽,所述再生液調配槽內部設置有濃度檢測計,所述二級水洗槽連接有萃取油中轉槽。有益效果在于:可以實現循環利用蝕刻液,減少環境污染,降低生產成本。定南堿性蝕刻液回用及提銅多少錢酸性蝕刻液的主要成分為氯化銅、鹽酸、氯酸鈉、氯化鈉和氯化銨。

蝕刻液子液是一類沒有任何磷、氯添加劑的水基拋光劑的拋光液有著良好的去污，防銹，清洗緩沖和增光功能，同時能使金屬加工制品超過本來光澤的蝕刻液。具有穩定、無毒，對生態環境無污染等特點。蝕刻液的主要成份：CuCL2·2H2O，HCl，NaCl，NH4Cl，H2O 酸性氯化銅蝕刻過程的主要化學反應在蝕刻過程中，氯銅中的Cu2+具有氧化性，能將板氧化成Cu1+，其反應如下：蝕刻反應：Cu+CuCl2->Cu2Cl2 形成的Cu2Cl2是不易溶于水的在有過量的Cl-存在下，能形成可溶性的絡合離子，其反應如下：絡合反應：Cu2Cl2 + 4Cl- —>2[CuCl3]2-隨著銅的蝕刻，溶液中的Cl1+越來越多，蝕刻能力很快就會下降，直到失去效能。為保持蝕刻能力，可以過溶液再生的方式將Cu1+重新生產CU2+，保持蝕刻能力。 蝕刻液的再生：再生的原理主要是利用氧化劑將溶液中的Cu1+氧化成Cu2+。

蝕刻過程中應注意的問題：1.提高板子與板子之間蝕刻速率的一致性在連續的板子蝕刻中，蝕刻速率越一致，越能獲得均勻蝕刻的板子。要達到這一要求，必須保證蝕刻液在蝕刻的全過程始終保持在較佳的蝕刻狀態。這就要求選擇容易再生和補償，蝕刻速率容易控制的蝕刻液。選用能提供恒定的操作條件和對各種溶液參數能自動控制的工藝和設備。通過控制溶銅量，PH值，溶液的濃度，溫度，溶液流量的均勻性(噴淋系統或噴嘴以及噴嘴的擺動)等來實現。2.高整個板子表面蝕刻速率的均勻性板子上下兩面以及板面上各個部位的蝕刻均勻性是由板子表面受到蝕刻劑流量的均勻性決定的。蝕刻過程中，上下板面的蝕刻速率往往不一致。如今業界采用的蝕刻液，主要分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液。

蝕刻過程中應注意的問題：減少側蝕和突沿，提高蝕刻系數：側蝕會產生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時間越長，側蝕的情況越嚴重。側蝕將嚴重影響印制導線的精度，嚴重的側蝕將不可能制作精細導線。當側蝕和突沿降低時，蝕刻系數就會升高，高蝕刻系數表示有保持細導線的能力，使蝕刻后的導線能接近原圖尺寸。無論是錫-鉛合金，錫，錫-鎳合金或鎳的電鍍蝕刻劑，突沿過度時都會造成導線短路。因為突沿容易撕裂下來，在導線的兩點之間形成電的拆接。堿性蝕刻液儲罐和用于合成氯化銨的中和反應罐。定南堿性蝕刻液回用及提銅多少錢

用耐堿性抗電鍍材料做抗電鍍保護層（電鍍錫或錫/鉛）時,使用的是堿性蝕刻液。定南堿性蝕刻液回用及提銅多少錢

PCB產生的蝕刻廢液中的銅離子含量約為10% ，既產生酸性蝕刻廢液，也會產生堿性蝕刻廢液，酸性蝕刻廢液以CuCl,為主，堿性蝕刻廢液以Cu(NH,)Cl,為主。處理工藝：將酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液除雜后直接進行反應制備堿式氯化銅Cu ( OH)- CuCl。但 PCB生產中含銅蝕刻廢液以酸性蝕刻廢液居多，堿性蝕刻廢液偏少，酸性和堿性蝕刻廢液比例約為9:1，而反應中酸堿蝕刻廢液的比例約為1:1。5。因此堿性蝕刻廢液不足，我們向酸性蝕刻廢液中加氨水使其轉化為堿性蝕刻廢液，以此解決堿性蝕刻廢液不足的問題。定南堿性蝕刻液回用及提銅多少錢

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