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掃描電子顯微鏡(SEM) 是一種介于透射電子顯微鏡和光學顯微鏡之間的一種觀察手段。其利用聚焦的很窄的高能電子束來掃描樣品, 通過光束與物質間的相互作用, 來激發各種物理信息, 對這些信息收集、放大、再成像以達到對物質微觀形貌表征的目的。新式的掃描電子顯微鏡的分辨率可以達到1nm;放大倍數可以達到30萬倍及以上連續可調;并且景深大, 視野大, 成像立體效果好。此外, 掃描電子顯微鏡和其他分析儀器相結合, 可以做到觀察微觀形貌的同時進行物質微區成分分析。掃描電子顯微鏡在巖土、石墨、陶瓷及納米材料等的研究上有廣泛應用。因此掃描電子顯微鏡在科學研究領域具有重大作用。
新則興科技有限公司成立于2004年,自成立以來新則興一直致力于成為客戶信賴的實驗室整體解決方案提供商!廣東場發射電鏡廠家
Leica EM TXP 精研一體機是一款多功能機械修塊研磨拋光機,適用于對目標定位,進行銑削,切割,沖鉆,研磨,修塊及拋光等操作。特別適用于對樣品微小目標的精細定位、切割等加工。徠卡精研一體機EM TXP標靶面制備系統具有定點修塊拋光功能,對樣品進行銑削,切割,沖鉆,研磨,修塊及拋光等操作后,可以用于電子顯微鏡(TEM-透射電子顯微鏡和SEM-掃描電子顯微鏡)、LM (光學顯微鏡)、共聚焦顯微鏡和AFM (原子力顯微鏡)的樣品制備和樣品檢驗。
廣東場發射電鏡廠家深圳市新則興科技,專注于代理國外質量的金相制樣設備,一直致力于成為客戶信賴的實驗室整體解決方案提供商!
TESCAN MAIA3辨場發射掃描電鏡TriSETM技術具有三個SE探測器,對所有工作模式下采集二次電子信號都進行了優化。位于鏡簡內部的In-BeamSE探測器能在短工作距離下采集二次電子。用于電子束減速模式下的SE(BDM)探測器用于分辨成像。In-Chamber SE探測器能提供形貌襯度電子束減速技術(BDT)能在低至50eV的低電壓下,也仍具有出色的分辨率(選配)電子束實時追蹤技術可對電子束實現實時優化擴展的低真空模式樣品室氣壓能達到500Pa,可用于不導電樣品的成像分辨率0.7@15keV, 1.0nm@ 1keV浸沒式物鏡系統和無交叉電子束模式結合在一起,可在低能量下實現超辨成像。浸沒式物鏡能在樣品周圍產生強磁場,降低了像差。而無交叉電子束模式則降低了Boersch效應,對電子束進行進一步的優化,終達到1.0nm@1keV的分辨率。低電壓成像電子束減速技術(BDT)包括了電子束減速模式(BDM),以及在這個模式下可同步獲取二次電子和背散射電子信號的高質量的透鏡內探頭。在電子束減速模式下,通過加在樣品臺,上的負偏壓使得電子束在作用到樣品表面前降低能量。比較低的著陸電壓可以降低到50eV(在手動控制"下可以降到0eV)。
透射電子顯微鏡的成像原理一般為以下三種情況:1、吸收像:當電子射到質量、密度大的樣品時,主要的成相作用是散射作用。樣品上質量厚度大的地方對電子的散射角大,通過的電子較少,像的亮度較暗。早期的透射電子顯微鏡都是基于這種原理。2、衍射像:電子束被樣品衍射后,樣品不同位置的衍射波振幅分布對應于樣品中晶體各部分不同的衍射能力,當出現晶體缺陷時,缺陷部分的衍射能力與完整區域不同,從而使衍射波的振幅分布不均勻,反映出晶體缺陷的分布。3、相位像:當樣品薄至100?以下時,電子可以穿過樣品,波的振幅變化可以忽略,成像來自于相位的變化。
光學顯微鏡主要由四個部件組成,分別是物鏡C目鏡、反光鏡和聚光器。
靈活的系統—
隨時滿足您的需求:憑借可靈活選擇的載物臺,Leica EM TIC 3X 不僅是進行高產量處理的理想設備,還適用于委托檢測的實驗室。根據您的需求,可選擇以下可互換的載物臺對 Leica EM TIC 3X 進行個性化配置:標準載物臺、多樣品載物臺、旋轉載物臺、冷卻載物臺或真空冷凍傳輸對接臺。用于制備標準樣品、高產量處理,以及在低溫條件下制備對高溫異常敏感的樣品,例如聚合物、橡膠或生物材料。環境控制型工作流程解決方案:憑借與 Leica EM TIC 3X 配套的 VCT 對接臺接口,可為易受環境影響的樣品和/或低溫樣品提供出色的刨平工作流程,此類樣品包括生物材料,地質材料或工業材料。隨后,這些樣品會在惰性氣體/真空/冷凍條件下,被傳輸至我們的鍍膜系統 EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系統。 “誠則信,信則興”的企業理念,以誠信為本,以客戶為尊,以產品及服務為橋,建立共贏的合作關系!廣東場發射電鏡廠家
新則興科技有限公司成立于2004年,自成立以來新則興一直致力于成為客戶信賴的實驗室整體解決方案提供商。廣東場發射電鏡廠家
金屬中的自由電子在特定條件下可以發射出來,若用金屬構成陰極并做成極細的針尖狀(曲率半徑為10-4—10-6厘米),在超高真空中(1.3×10-7帕以下)施以數千伏電壓,金屬中的電子即可從陰極冷金屬中發射,這種發射電子的方法稱為場發射。由于金屬的不同晶面發射電子的能力不同,當金屬表面上吸附有其他物質時,也使電子發射能力有變化,因而由熒光屏上觀察到的圖樣會有不同。利用場發射可制成場發射顯微鏡(FEM),用于研究氣體原子在針尖表面的吸附、分解和擴散等過程,是表面物理研究的一種方法。場發射也是形成氣體放電的一種方式,稀薄氣體放電管中,陰極在強電場作用下釋放出的電子被加速,撞擊氣體分子,使之電離產生正負離子,維持氣體放電。在產生強脈沖高能電子束的裝置中,通常也使用場發射陰極,能在極短的時間內產生大量的電子。廣東場發射電鏡廠家
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