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首頁-定南酸堿蝕刻液回用及提銅





更新時間:2025-12-16
簡要描述: 蝕刻過程中應注意的問題:1.提高板子與板子之間蝕刻速率的一致性在連續(xù)的板子蝕刻中,蝕刻速率越一致,越能獲得均勻蝕刻的板子

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蝕刻過程中應注意的問題:1.提高板子與板子之間蝕刻速率的一致性在連續(xù)的板子蝕刻中,蝕刻速率越一致,越能獲得均勻蝕刻的板子。要達到這一要求,必須保證蝕刻液在蝕刻的全過程始終保持在較佳的蝕刻狀態(tài)。這就要求選擇容易再生和補償,蝕刻速率容易控制的蝕刻液。選用能提供恒定的操作條件和對各種溶液參數(shù)能自動控制的工藝和設備。通過控制溶銅量,PH值,溶液的濃度,溫度,溶液流量的均勻性(噴淋系統(tǒng)或噴嘴以及噴嘴的擺動)等來實現(xiàn)。2.高整個板子表面蝕刻速率的均勻性板子上下兩面以及板面上各個部位的蝕刻均勻性是由板子表面受到蝕刻劑流量的均勻性決定的。蝕刻過程中,上下板面的蝕刻速率往往不一致。根據(jù)蝕刻反應機理,隨著銅的蝕刻就會形成一價銅離子。定南酸堿蝕刻液回用及提銅
不會產生膨脹的酸性蝕刻液再生回用方法,該方法包括以下步驟:1)蝕刻生產線中的高含銅量酸性蝕刻液進入廢液收集槽中,廢液收集槽內的蝕刻液經過濾后流入電解槽中進行電解提銅;2)電解提銅后的陰,陽極液流入再生液儲槽中混合,然后輸送至蝕刻生產線;3)向含有再生液的蝕刻液中加入非氧化性促進劑,利用非氧化性促進劑與蝕刻液中的難溶配合物發(fā)生配體交換反應,使蝕刻液恢復蝕刻能力,確保蝕刻速度。該再生回用方法可保證再生液回用時不會產生藥液膨脹且蝕刻速度穩(wěn)定,同時蝕刻過程無氯氣產生,能夠很好地滿足在線提銅及回用的要求,實現(xiàn)零污染物排放和再生液100%回用,達到安全環(huán)保并獲得資源大化利用的目的。定南酸堿蝕刻液回用及提銅堿性蝕刻液循環(huán)再生回用裝置,具有廢液暫存槽、三級萃取槽、二級水洗滌槽。
一種蝕刻液循環(huán)再生及提銅裝置及方法:該技術的基本原理是將印制線路板堿性蝕刻廢液與酸性氯化銅蝕刻廢液進行中和沉淀,生成的堿式氯化銅沉淀用于生產工業(yè)級硫酸銅;沉淀壓濾母液用于生產堿性蝕刻液;其余廢水經金屬鋁肩置換去除銅離子,進行蒸發(fā)濃縮生產混合銨鹽。另將三氯化鐵蝕刻廢液投鐵提銅后通入氯氣并蒸發(fā)濃縮,生成三氯化鐵回用于線路板蝕刻。該方法的缺點有以下幾點:1.普遍采取分散運輸、集中處理的方式,在運輸過程中存在跑、冒、滴、漏的現(xiàn)象。據(jù)統(tǒng)計,運輸損失達3%?5%,對環(huán)境造成了污染;2.均需要向廢液里加入化學品,從而破壞了廢液成分,無法循環(huán)使用;3.銅回收效率低,產品價值低,處理成本高,產生廢水處理成本高。
蝕刻液提銅:微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系,在近幾年普遍的運用在PCB之表面處理制程,例如:沉銅(PTH)制程,電鍍制程、內層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產線。目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設計了不同的循環(huán)再生設備。無論是過硫酸鈉/硫酸體系還是雙氧水/硫酸體系,我司設備均可把飽和微蝕液處理再生后,返回客戶生產線繼續(xù)使用,回用時,不改變客戶原生產工藝參數(shù);在運行我們公司設備時可不停機亦可更換液體,從而達到穩(wěn)定生產的目的。這兩種體系再生設備設備不光可以節(jié)省約30%的物料成本,還很大降低廢水處理成本,且可以電解出金屬銅。從電路板蝕刻液回收硫酸銅及制作再生蝕刻液進行了工藝探索,得出中和法可從蝕刻液中脫除約90%的銅。
堿性蝕刻液循環(huán)再生回用裝置,具有廢液暫存槽、三級萃取槽、二級水洗滌槽、電解反應槽、再生液調配槽、萃取油中轉槽,廢液暫存槽連接蝕刻生產線,廢液暫存槽的輸出端依次連接三級萃取槽、二級水洗滌槽、電解反應槽,三級萃取槽萃取分離廢液中的銅離子,二級水洗滌槽將銅離子和萃取油分離,電解反應槽對銅離子電解提銅;三級萃取槽的廢液轉移到再生液調配槽中調配回用;二級水洗滌槽分離出來的萃取油轉移搭配萃取油中轉槽中循環(huán)回用。本實用新型實現(xiàn)在線隨機封閉式循環(huán)運行,從源頭污染預防,減少二次污染,達到對蝕刻廢液有價部分進行回收,有用部分進行完全回用,符合產業(yè)利用,具有好的經濟效益和社會效益。蝕刻廢液中的銅含量降低以后,經調整可以回到蝕刻線上回用。定南酸堿蝕刻液回用及提銅
蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩種。定南酸堿蝕刻液回用及提銅
堿性蝕刻液再生循環(huán)技術實現(xiàn)步驟:所述萃取單元包含萃取槽和一個水洗槽,所述萃取槽上設有萃取劑溢流出口、蝕刻廢液進口、蝕刻廢液溢流出口,所述萃取劑溢流出口與一個水洗槽相連,所述蝕刻廢液進口與蝕刻廢液收集槽相連,所述蝕刻廢液溢流出口與調配單元相連,一個水洗槽與反萃單元相連接。其中,所述反萃單元包括反萃槽和第二水洗槽,所述反萃槽上設有萃取劑溢流出口、反萃劑溢流出口和反萃劑入口,所述萃取劑溢流出口與第二水洗槽相連,所述反萃劑入口和溢流出口分別與電解單元相連接;且所述第二水洗槽與萃取槽相連。定南酸堿蝕刻液回用及提銅
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